MAF-QL

本产品是根据伯努利定律,可调整薄形晶圆的定向平面/V切口的正确位置,处理中心定位的一款高速处理装置。


产品特点

  • 根据伯努利定律效果,可以定位位置偏离的薄形晶圆 。
  • 利用接触方式也可以处理50μm的极薄晶圆。

产品规格

适用对象

φ100mm~φ150mm

SEMI/JEIDA规格晶片

※使用玻璃晶片等特殊晶片的话,请事先与我们商谈。

处理时间 9秒以内(处理φ150mm)
处理精度

XY:±0.1mm以内(3σ)

θ:±0.1°以内(3σ)

处理范围

±10mm以内

(晶片偏心量)

晶片保持方法 以最小点接触晶圆背面
晶片保持确认 原点翻转型传感器
通信规格

RS-232C(串行通信)

光学 I/O(并行通信)

适用范围

电源:DC24V±10% 5A 1系统

DRY AIR 1:φ6mm 0.05~0.35MPa 100L/min 1系統

DRY AIR 2:φ4mm 0.2~0.3MPa 100L/min 1系統

重量 本体:約14kg

关于产品的咨询

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